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標題: 分析大陆和台灣的設計趋势和EDA工具的使用 [打印本頁]

作者: admin 時間: 2022-4-29 16:02
標題: 分析大陆和台灣的設計趋势和EDA工具的使用
据報导，Global Source和Gartner的年度钻研陈述暗示：在大陆和台灣有73%的芯片設計者采纳180纳米或小于180纳米的技能設計ASIC，這個比例和2004年比拟增加了21%。

一份《大陆線上拉霸機，和台灣的去除眼袋產品,設計趋向及EDA东西》的钻研陈述称：對付尺度的IC設計項目而言，在大陆和台灣有52%的設計者采纳180纳米或更细的工艺举行設計，與2004年比拟增加10%。

Global Source和Gartner對大陆的378名工程師和台灣的226工程師举行查询拜访，以對大陆和台灣的設計趋向和EDA东西的利用举行比拟钻研。

钻研表白：台灣的被查询拜访者中有66%、大陆的被查询拜访者有69%在ASIC研發進程中，采纳四次或更少次数的迭代，比2004年别离上升了16%和11%。

Gartner公司設計和工程小治療鼻竇炎，组的首席阐發師Nancy W治療早洩推薦,u認為：迭代次数的削减表白EDA东西變得愈来愈繁杂、工程師對EDA软件的利用變得愈来愈纯熟。

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